特許

J-GLOBAL ID：200903040993115670

基板洗浄装置および基板洗浄方法

発明者： 田中 悟 ,  森西 健也 ,  宮城 雅宏 ,  伊丹 直滋 ,  渡邉 和廣
出願人/特許権者： 大日本スクリーン製造株式会社 ,  富士通株式会社
代理人 (1件)： 吉田 茂明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-333120
公開番号（公開出願番号）：特開平9-171985
出願日： 1995年12月21日
公開日（公表日）： 1997年06月30日
要約：

【要約】【課題】 非接触で洗浄能力が高い基板洗浄装置を提供すること。【解決手段】 超音波洗浄ノズル10と高圧洗浄ノズル20とがひとつの洗浄装置内に併設されている。超音波洗浄ノズル10は、スリット13から超音波洗浄液Fをカーテン状に吐出し、高圧洗浄ノズル20は基板1に吐出された超音波洗浄液Fに向けて高圧洗浄ジェットJを噴出する。超音波洗浄で除去された異物だけでなく、高圧洗浄ジェットJによって除去された異物も超音波洗浄液Fの流れによって基板1の回転Rの下流側に排出される。

請求項（抜粋）：

基板の洗浄を行う装置であって、(a) 基板に向けて液体を吐出しつつ前記液体に超音波を発射して前記基板の超音波洗浄を行う超音波洗浄手段と、(b) 前記超音波洗浄手段とは異なる位置に設けられ、高圧液体を前記基板に向けて噴出して前記基板の高圧洗浄を行う高圧洗浄手段と、を備え、前記基板に対して前記超音波洗浄と前記高圧洗浄との複合洗浄を行うことを特徴とする基板洗浄装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/02

FI (3件)：

H01L 21/304 341 N ,  H01L 21/304 341 M ,  B08B 3/02 B

引用特許：

審査官引用 (3件)

• 特開平1-151975
  
• 特開平3-224670
  
• 特開平1-105376