特許
J-GLOBAL ID：200903040998553625
基板洗浄装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
五十嵐 孝雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-212444
公開番号（公開出願番号）：特開平9-045654
出願日： 1995年07月28日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：
【要約】【課題】 薬液処理から水洗に移ろうとしたときに、その薬液処理で用いた薬液が水洗のための純水に混入することを防止して、処理能力を高める。【解決手段】 第1洗浄処理室22は、基板Wを保持して水平回転するスピンチャック50と、基板Wの上方に配置され、処理液供給部70から供給される処理液を基板Wに向かって吹き付ける処理液吹付ノズル52とを備える。処理液吹付ノズル52は、内蔵するノズル本体60により超音波振動された処理液を基板Wに吹き付ける。処理液供給部70は、ノズル本体60に接続される純水用の主流路72と、この主流路72に個別に接続される薬液用の複数本の枝流路74,75とを備える。処理液吹付ノズル52に直接接続される流路は純水用の主流路72だけで、薬液はこの主流路72を介して送られることから、薬液と純水との調合液の供給の処理後には、主流路72内の薬液は純水で流されて残留することがない。
請求項（抜粋）：
基板の表面に処理液を供給して基板の表面を洗浄する基板洗浄装置であって、基板を回転可能に保持する基板保持手段と、前記基板保持手段によって保持された基板の表面に処理液を供給し、かつ処理液に超音波振動を付与する超音波振動部を有するノズルと、前記ノズルに処理液である純水を送る1本の主流路と、前記主流路に個別に接続されて、前記ノズルに処理液である薬液を送る1または複数の枝流路とを備えることを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, H01L 21/304 351
, B08B 3/02
H01L 21/304 341 N
, H01L 21/304 351 S
, B08B 3/02 B
