特許
J-GLOBAL ID：200903040999456860
薄膜サーミスタ及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-294033
公開番号（公開出願番号）：特開平5-135912
出願日： 1991年11月11日
公開日（公表日）： 1993年06月01日
要約：
【要約】【目的】 小型で、マスク作業の不要な薄膜サーミスタ素子を提供する。【構成】 四隅に切断面11、12、13、14を有する矩形アルミナ基板1と、前記矩形アルミナ基板1の一方の表面に配置された一対の厚膜電極膜2a、2bと、前記一対の厚膜電極膜2a、2bと電気的に接続し、前記矩形アルミナ基板の前記切断面に形成された一対の貫通導電性膜4a、4bと、前記一対の厚膜電極膜2a、2bに積層して配置された感温抵抗体膜3とから構成される。
請求項（抜粋）：
四隅に切断面を有する矩形アルミナ基板と、前記矩形アルミナ基板の一方の表面に配置された一対の厚膜電極膜と、前記一対の厚膜電極膜と電気的に接続し、前記矩形アルミナ基板の前記切断面に形成された一対の貫通導電性膜と、前記一対の厚膜電極膜に積層して配置された感温抵抗体膜とから構成された薄膜サーミスタ。
IPC (2件)：
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