特許
J-GLOBAL ID：200903041000144782
固体表面の洗浄装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
押田 良久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-225238
公開番号（公開出願番号）：特開平7-153729
出願日： 1993年08月18日
公開日（公表日）： 1995年06月16日
要約：
【要約】【目的】 洗浄用昇華性凍結粒子の制御自在に指向できる噴霧を精密トラッキング手段を用いて小出しし洗浄を慎重に計量しながら行なう制御雰囲気装置で環境にも問題を残さない。【構成】 本発明は半導体表面から、凍結起寒剤例えばアルゴンの噴霧を用い、前記固体表面に衝突させて汚染粒子を除去する洗浄装置で、装置には超清浄条件に設計され、清掃ガスと排気導管を備えるハウジングに配置された適当なノズルと、前記ハウジング内に移動自在に配置され、前記半導体固体表面をトラックの上を制御自在に、前記ノズルから発射された凍結起寒剤の噴霧の下を搬送させる支持テーブルを具備する。【効果】 本発明の起寒剤エアゾール法での洗浄装置で初期の新しい状態にほぼ復帰できた。
請求項（抜粋）：
固体表面から好ましくない材料を、ばらばらのほぼ凍結した洗浄粒子で前記固体表面との衝突後に蒸発できるものを発射させた噴霧を用いて洗浄する装置において、a)被洗浄固体面を中に収容し、かつ固体面をその中に導入する取入手段を備えるほぼ密閉されたハウジングと;b)前記ハウジングに位置して、ばらばらのほぼ凍結した洗浄粒子の噴霧を前記被洗浄固体面に発射させるノズルと;c)ほぼ凍結した洗浄粒子を発生させる流体洗浄剤を前記ノズルに供給する手段と;d)前記固体面から洗浄した前記好ましくない材料を前記ハウジングから除去する手段と;e)前記ハウジング内に前記被洗浄固体面を支持し、かつ前記固体面を前記取入手段から前記ノズルの発射された噴霧に近接して並列する位置に制御自在に移動させる手段を備える移動できる支持手段と;f)前記ハウジング内の雰囲気を制御し、かつ前記固体面から前記好ましくない材料を除去させるフラッシ気体を供給する手段と;からなる洗浄装置。
IPC (3件)：
H01L 21/304 341
, B08B 7/02
, B24C 1/00
