特許
J-GLOBAL ID：200903041000886584
露光用反射型マスクブランク及び露光用反射型マスク
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
阿仁屋 節雄 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-048545
公開番号（公開出願番号）：特開2003-249434
出願日： 2002年02月25日
公開日（公表日）： 2003年09月05日
要約：
【要約】【課題】 中間層による反射率の低下を最小限に抑え、高精度なパターン形成が可能となる反射型マスク及びそれを製造するための反射型マスクブランクの提供。【解決手段】基板上に光を反射する多層反射膜を有し、多層反射膜上に中間層を有し、中間層上に前記光を吸収する吸収膜を有する露光用反射型マスクブランク及び反射型マスクであって、中間層の材料をCr,Ru,Rhから選ばれる少なくとも一つの元素と、Siとを含む材料で形成した。
請求項（抜粋）：
基板と、該基板上に順次形成された、露光光を反射する多層反射膜と、露光光を選択的に吸収する吸収膜とを備え、前期多層反射膜と吸収膜との間に吸収膜のエッチング環境に耐性を有する中間層を形成した露光用反射型マスクブランクであって、前記中間層の材料がCr,Ru,Rhから選ばれる少なくとも一つの元素と、Siとを含む材料で形成されていることを特徴とする露光用反射型マスクブランク。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 1/08
, G03F 1/16
G03F 1/08 Z
, G03F 1/16 A
, H01L 21/30 531 M
2H095BA10
, 2H095BB11
, 2H095BC05
, 2H095BC24
, 5F046GD01
, 5F046GD10
, 5F046GD16
