特許

J-GLOBAL ID：200903041007031126

ガス浄化用触媒およびその製造方法

発明者： 高村 孝次
出願人/特許権者： 高村 孝次 ,  谷 正士
代理人 (1件)： 武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-359125
公開番号（公開出願番号）：特開2002-159860
出願日： 2000年11月27日
公開日（公表日）： 2002年06月04日
要約：

【要約】【課題】 優れたガス浄化効率を長期間にわたって維持でき、しかも単位重量当たりの反応促進効果が高いガス浄化用触媒を提供する。【解決手段】 プラズマ放電下でガスを浄化するガス浄化用触媒において、少なくとも酸化ハフニウムを2〜15重量%、酸化ジルコンを10〜25重量%、酸化マンガンを10〜25重量%、炭素を20〜30重量%含有することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

プラズマ放電下でガスを浄化するガス浄化用触媒において、少なくとも酸化ハフニウムを2〜15重量%、酸化ジルコンを10〜25重量%、酸化マンガンを10〜25重量%、炭素を20〜30重量%含有することを特徴とするガス浄化用触媒。

IPC (6件)：

B01J 27/224 ZAB ,  B01D 53/94 ,  F01N 3/02 321 ,  F01N 3/08 ,  F01N 3/10 ,  F01N 3/24

FI (6件)：

B01J 27/224 ZAB A ,  F01N 3/02 321 A ,  F01N 3/08 C ,  F01N 3/10 A ,  F01N 3/24 A ,  B01D 53/36 104 Z

Fターム (64件)：

3G090AA03 ,  3G090AA06 ,  3G090BA01 ,  3G090BA08 ,  3G091AA02 ,  3G091AA18 ,  3G091AB14 ,  3G091BA00 ,  3G091BA11 ,  3G091BA14 ,  3G091BA15 ,  3G091BA20 ,  3G091BA39 ,  3G091CA21 ,  3G091GA01 ,  3G091GB01W ,  3G091GB01Z ,  3G091GB03W ,  3G091GB10W ,  3G091GB17Z ,  3G091HA07 ,  3G091HA44 ,  4D048AA02 ,  4D048AA06 ,  4D048AA14 ,  4D048AA18 ,  4D048AB03 ,  4D048AB07 ,  4D048BA03Y ,  4D048BA06X ,  4D048BA08X ,  4D048BA18X ,  4D048BA28X ,  4D048BA45X ,  4D048BB01 ,  4D048EA03 ,  4G069AA02 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01B ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA05A ,  4G069BA05B ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BB15A ,  4G069BB15B ,  4G069BC52A ,  4G069BC52B ,  4G069BC62A ,  4G069BC62B ,  4G069CA02 ,  4G069CA03 ,  4G069CA09 ,  4G069DA06 ,  4G069EA02X ,  4G069EA02Y ,  4G069EB18Y ,  4G069FA02 ,  4G069FB07 ,  4G069FB30 ,  4G069FB62 ,  4G069FC08