特許

J-GLOBAL ID：200903041012580502

放電発生器を備えたリソグラフィ装置及びリソグラフィ装置の素子を洗浄する方法

発明者： ラヒムーワ,タチアナ ウィクトローナ ,  バニーン,ワジム エフゲニーウィッチ ,  イワノフ,ウラジミール ウィタレウィッチ ,  コシェレフ,コンスタンチン ニコラエウィッチ ,  ムーアス,ヨハネス フーベルトゥス ジョセフィーナ ,  コワリョフ,アレクサンダー セルゲーウィッチ ,  ロパエフ,ドミトリー ウィクトロウィッチ
出願人/特許権者： エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.
代理人 (3件)： 稲葉 良幸 ,  大賀 眞司 ,  大貫 敏史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-249166
公開番号（公開出願番号）：特開2007-096297
出願日： 2006年09月14日
公開日（公表日）： 2007年04月12日
要約：

【課題】リソグラフィ装置の素子を洗浄する方法、特にリソグラフィ装置の1つ以上の光学素子を洗浄する方法を提供すること。【解決手段】リソグラフィ装置の例えば集光鏡といった光学素子などの素子を洗浄する方法であって、窒素を含むガスを供給するステップと、当該ガスの少なくとも一部から窒素ラジカルを生成することにより、ラジカル含有ガスを形成するステップと、当該ラジカル含有ガスの少なくとも一部をリソグラフィ装置の1つ以上の素子に供給するステップとを備える。リソグラフィ装置は、ソースと、光学素子と、無線周波数放電を発生するように配置された放電発生器とを備える。【選択図】図3

請求項（抜粋）：

リソグラフィ装置の素子を洗浄する方法であって、 窒素を含むガスを供給するステップと、 当該ガスの少なくとも一部から窒素ラジカルを生成することにより、ラジカル含有ガスを形成するステップと、 当該ラジカル含有ガスの少なくとも一部をリソグラフィ装置の1つ以上の素子に供給するステップと を備える方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20

FI (4件)：

H01L21/30 503G ,  H01L21/30 516F ,  H01L21/30 531A ,  G03F7/20 521

Fターム (15件)：

5F046AA22 ,  5F046BA03 ,  5F046BA05 ,  5F046CB01 ,  5F046CB02 ,  5F046CB09 ,  5F046CB17 ,  5F046DA04 ,  5F046DA27 ,  5F046GA03 ,  5F046GA07 ,  5F046GA14 ,  5F046GA20 ,  5F046GB01 ,  5F046GD10

引用特許：

審査官引用 (3件)

• リソグラフィ装置およびデバイス製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-414495   出願人：エイエスエムエルネザランドズベスローテンフエンノートシャップ
• 荷電粒子ビーム装置およびその洗浄方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-116386   出願人：株式会社東芝
• 光学素子の洗浄装置及び方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-008875   出願人：キヤノン株式会社