特許
J-GLOBAL ID：200903041019351827
半導体製造設備診断方法およびその診断システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
秋本 正実
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-234876
公開番号（公開出願番号）：特開平5-074672
出願日： 1991年09月13日
公開日（公表日）： 1993年03月26日
要約：
【要約】【目的】 半導体製造設備の動作情報と運転状態をモニタして設備診断ルールの把握ができる診断方法および診断システムを提供すること。【構成】 診断用設備に診断に必要な設備動作の来歴と設備を運転した時の設備状態としてモニタする項目を設定し、設備動作に対応して設備動作の情報と設備を運転した時の設備状態の変動情報をモニタしてデータを収集し、収集データを選択してルールをもとにデータを分類して設備を運転した時の設備状態の変動の特徴量を算出し、設備診断としてルールにある特徴量の判定基準にしたがってデータを診断し、診断結果は設備状態で起こっている現象を判断して出力する。
請求項（抜粋）：
半導体製造設備診断方法において、半導体製造設備の停止後に運転を開始した設備の運転状態に関わる情報と該設備の部位の動作の時間変化の情報とを記憶し、両情報を時間を共通にしたデータとして扱い、設備の部位の動作と連動した設備の運転状態の変動の特徴量を算出し、該特徴量をその判断基準と比較し、該比較結果から設備で発生する状態を特定して設備の診断を行うことを特徴とする半導体製造設備診断方法。
IPC (2件)：
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