特許
J-GLOBAL ID：200903041032205287
薄膜の形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
丸島 儀一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-100177
公開番号（公開出願番号）：特開平10-286515
出願日： 1997年04月17日
公開日（公表日）： 1998年10月27日
要約：
【要約】【課題】 有機薄膜を均一に、かつ所望の量で堆積しうる形成方法を提供する。【解決手段】 凹凸のある基板表面に1,2,3,4,5にフッ素含有化合物もしくは高分子化合物を含有する第1薄膜6をラングミュア・ブロジェット法により堆積させる工程と、該第1薄膜に重畳して任意の有機化合物を含む第2薄膜7を基板上に堆積させる工程をおこなう。
請求項（抜粋）：
基板表面に、フッ素含有化合物もしくは高分子化合物を含有する第1薄膜をラングミュア・ブロジェット法により堆積させる工程と、該第1薄膜に重畳して任意の有機化合物を含む第2薄膜を基板上に堆積させる工程からなることを特徴とする薄膜の形成方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
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