特許
J-GLOBAL ID：200903041035533641
ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (5件)：
棚井 澄雄
, 志賀 正武
, 青山 正和
, 鈴木 三義
, 柳井 則子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-100205
公開番号（公開出願番号）：特開2005-070742
出願日： 2004年03月30日
公開日（公表日）： 2005年03月17日
要約：
【課題】 充分実用に足る溶解コントラストを有し、かつパターン倒れを抑制可能なポジ型レジスト組成物、およびパターン形成方法を提供する。【解決手段】 低級アルキル分子から3方以上にポリマー鎖が延びた星型分岐ポリマーを含むことを特徴とする、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂成分(A1)又は3官能以上の多官能性連鎖移動剤の存在下、(メタ)アクリル酸エステルを含む単量体の重合により得られる星型分岐ポリマーを含むことを特徴とする、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂成分(A2)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物、及び前記ポジ型レジスト組成物からなる層を基板上に設け、これにプレベークを施し、選択的に露光した後、露光後加熱を施し、アルカリ現像することを特徴とするレジストパターン形成方法。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
低級アルキル分子から3方以上にポリマー鎖が延びた星型分岐ポリマーを含むことを特徴とする、酸の作用によりアルカリに対する溶解性が増大する樹脂成分(A1)と、露光により酸を発生する酸発生剤成分(B)と、有機溶剤(C)とを含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3件)：
G03F7/039
, G03F7/032
, H01L21/027
G03F7/039 601
, G03F7/032
, H01L21/30 502R
2H025AA03
, 2H025AB16
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025BG00
, 2H025CB14
, 2H025CB41
, 2H025CB45
, 2H025CC03
, 2H025FA17
