特許

J-GLOBAL ID：200903041052617646

高純度フッ化カルシウム焼結体およびその製造方法

発明者： 藤森 洋行
出願人/特許権者： 東芝セラミックス株式会社
代理人 (1件)： 木下 茂
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-100716
公開番号（公開出願番号）：特開2003-300777
出願日： 2002年04月03日
公開日（公表日）： 2003年10月21日
要約：

【要約】【課題】 光学部材用等の高純度のフッ化カルシウム単結晶の切出し屑等を原料として利用することにより、純度を低下させることなく、むしろ向上させつつ焼結特性の向上を図り、半導体製造工程で用いられる耐プラズマ性部材、特に、大型品や複雑な形状を有する部材に好適な高強度かつ低コストの高純度フッ化カルシウム焼結体およびその製造方法を提供する。【解決手段】 フッ化カルシウム単結晶片を原料として、これを粉砕して得られた粉末を、ホットプレスにより焼結させることを特徴とする製造方法を用いて、純度99.0%以上、密度3.17g/cm3以上の高純度フッ化カルシウム焼結体を得る。

請求項（抜粋）：

原料がフッ化カルシウム単結晶片であり、かつ、純度99.0%以上、密度3.17g/cm3以上であることを特徴とする高純度フッ化カルシウム焼結体。

IPC (2件)：

C04B 35/553 ,  C01F 11/22

FI (2件)：

C01F 11/22 ,  C04B 35/00 U

Fターム (18件)：

4G030AA10 ,  4G030AA36 ,  4G030AA58 ,  4G030BA01 ,  4G030GA03 ,  4G030GA11 ,  4G030GA27 ,  4G030GA29 ,  4G076AA05 ,  4G076AB04 ,  4G076AC04 ,  4G076BA38 ,  4G076BB01 ,  4G076BD02 ,  4G076BD04 ,  4G076CA11 ,  4G076CA27 ,  4G076DA30