反射防止光学部材および防汚層の形成方法

発明者： , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：秋元輝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-163239
公開番号（公開出願番号）：特開平11-352304
出願日： 1998年06月11日
公開日（公表日）： 1999年12月24日
要約：

【要約】【課題】表面に、指紋、皮脂などの汚れの付着を防止し、付着しても容易に拭き取れる防汚層を高い耐久性で形成した反射防止光学部材およびこの防汚層を形成する方法を提供する。【解決手段】透明基材上の少なくとも片面に反射防止層を有する反射防止光学部材において、最表面上に特定の有機ケイ素化合物(一般式1)、および他の特定の有機ケイ素化合物(一般式2、3)を含有する防汚剤からなる防汚層を形成した反射防止光学部材。前記防汚層をウェットコーティンク法(ディップコーティング法、スピンコーティング法など)により前記反射防止層上に塗布し、必要ならば加熱、加湿、紫外線照射、又は電子線照射などを行う。【化1】【化2】【化3】

請求項（抜粋）：

透明基材上の少なくとも片面に反射防止層を有する反射防止光学部材において、最表面上に一般式(1)で表される有機ケイ素化合物、および下記一般式(2)で表される有機ケイ素化合物を含有する防汚剤からなる防汚層が形成されたことを特徴とする反射防止光学部材。【化1】(ここに、Rf は炭素数1〜10のパーフロロアルキル基、R1 は炭素数2〜10の2価炭化水素基である。)【化2】〔式中、R2 は互いに同一又は異種の炭素数1〜10の1価炭化水素基、R3 は下記一般式(3)【化3】(ここに、R6 は炭素数2〜10の2価炭化水素基、R7 は炭素数1〜10の1価炭化水素基、aは0〜2の整数である。)で表される加水分解性基、R4 はフッ素原子を含んでいてもよい炭素数1〜10の1価炭化水素基、R5 はR3 又はR4 を示すが、各R5 は互いに同一であっても異なっていてもよい。kは0〜100、mは0〜100、nは0〜5の整数であるが、nは0の場合、R5 の少なくとも1個はR3 である。〕

IPC (4件)：

G02B 1/11 , B32B 27/18 , C08G 77/20 , G02B 1/10

FI (4件)：

G02B 1/10 A , B32B 27/18 Z , C08G 77/20 , G02B 1/10 Z

引用特許：

審査官引用 (1件)

表面処理剤
公報種別：公開公報出願番号：特願平9-303553 出願人：信越化学工業株式会社

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