特許

J-GLOBAL ID：200903041071647033

透光性酸化イットリウム焼結体およびその製造方法、ならびに、半導体または液晶製造装置部材

発明者： 岸 幸男 ,  大滝 浩通 ,  酒巻 誠 ,  堀田 憲康 ,  細道 善文 ,  米澤 歴 ,  柳田 国宏 ,  鈴木 秀輔 ,  橋本 賢太 ,  星 友梨花
出願人/特許権者： 株式会社日本セラテック
代理人 (1件)： 高山 宏志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-364960
公開番号（公開出願番号）：特開2005-126290
出願日： 2003年10月24日
公開日（公表日）： 2005年05月19日
要約：

【課題】 ハロゲン系ガスやハロゲン系プラズマに対する耐食性を示し、また、可視・赤外領域で優れた透光性を示す透光性酸化イットリウム焼結体とその製造方法を提供する。【解決手段】 平均粒径が3μm以下で純度が99%以上の酸化イットリウム粉末を所定形状に成形し、大気雰囲気中、1400〜1800°Cにて0.5〜10時間の常圧焼結し、得られた焼結体の表面に窒化ホウ素粉末を塗布した後、さらに1400〜1800°Cにて0.5〜6時間、50〜250MPaの圧力で等方加圧焼結する。これにより、ハロゲン系プラズマ環境下でのエッチング速度が5nm/min以下であり、かつ、可視・赤外領域での透過率が10%以上である透光性酸化イットリウム焼結体を得る。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

平均粒径が3μm以下で純度が99%以上の酸化イットリウム粉末を所定形状に成形し、大気雰囲気中、1400〜1800°Cにて0.5〜10時間、常圧焼結して焼結体とした後、前記焼結体の表面に窒化ホウ素粉末を塗布して、さらに1400〜1800°Cにて0.5〜6時間、50〜250MPaの圧力による等方加圧焼結を行うことを特徴とする透光性酸化イットリウム焼結体の製造方法。

IPC (3件)：

C04B35/50 ,  C04B41/87 ,  H01L21/3065

FI (3件)：

C04B35/50 ,  C04B41/87 D ,  H01L21/302 101G

Fターム (2件)：

5F004AA16 ,  5F004BB29

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 透光性を有する耐蝕性材料及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平11-038204   出願人：太平洋セメント株式会社, 株式会社日本セラテック