特許

J-GLOBAL ID：200903041084946137

電子部品用洗浄剤

発明者： 坂井 暉夫 ,  福田 政雄
出願人/特許権者： 三洋化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-044298
公開番号（公開出願番号）：特開2002-241789
出願日： 2001年02月20日
公開日（公表日）： 2002年08月28日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 微細なギャップを有する液晶セル等の電子部品に残存する液晶等の有機物を除去するための洗浄剤で、洗浄性とリンス性に優れ、電子部品に腐蝕を発生させない洗浄剤を提供する。【解決手段】 一般式1のエーテルカルボン酸塩(A)を含有する電子部品用洗浄剤。[R1-O-(R2O)p-R3COO-]nXn+ (1)[R1はC1〜25の炭化水素基、R2はC2〜4のアルキレン基、R3はC1〜3のアルキレン基、pは1〜50の整数、nは1または2の整数、Xn+はアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオンまたはアミンカチオンを表す。]

請求項（抜粋）：

一般式(1)で示されるエーテルカルボン酸塩(A)を含有することを特徴とする電子部品用洗浄剤。 〔R1-O-(R2O)P-R3COO-〕nXn+ (1)〔式中、R1は炭素数1〜25の炭化水素基、R2は炭素数2〜4のアルキレン基、R3は炭素数1〜3のアルキレン基、pは1〜50の整数、nは1または2の整数、Xn+はアルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、アンモニウムイオンまたはアミンカチオンを表す。〕

IPC (9件)：

C11D 1/06 ,  C11D 3/18 ,  C11D 3/22 ,  C11D 3/26 ,  C11D 3/37 ,  C11D 3/43 ,  C11D 7/26 ,  C11D 10/02 ,  G02F 1/13 101

FI (9件)：

C11D 1/06 ,  C11D 3/18 ,  C11D 3/22 ,  C11D 3/26 ,  C11D 3/37 ,  C11D 3/43 ,  C11D 7/26 ,  C11D 10/02 ,  G02F 1/13 101

Fターム (15件)：

2H088FA21 ,  2H088FA22 ,  4H003AB05 ,  4H003AB45 ,  4H003AB46 ,  4H003AC08 ,  4H003DA15 ,  4H003EB07 ,  4H003EB37 ,  4H003ED03 ,  4H003ED29 ,  4H003ED31 ,  4H003ED32 ,  4H003FA15 ,  4H003FA21