特許

J-GLOBAL ID：200903041087932323

パターン形成装置および方法

発明者： 崎野 茂夫
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 伊東 哲也 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-078546
公開番号（公開出願番号）：特開平11-253860
出願日： 1998年03月12日
公開日（公表日）： 1999年09月21日
要約：

【要約】【課題】 半導体、液晶基板、プリント基板等の、安価・高精度な製造装置および製造方法を提供する。【解決手段】 基板にパターンを描画するために、複数の描画ノズルを備えたヘッドと基板間の距離・傾きを測定し、 測定結果に基づき基板・ヘッド間の距離、傾きが一定となるよう基板位置を制御するとともに、既に基板に描かれたパターン位置を検出し、 検出結果に基づきヘッドの位置合わせを行ない、基板をヘッドと平行な平面内を移動させながら、 基板の位置によりヘッドから描画樹脂を吐出させ任意のパターンを描画する。

請求項（抜粋）：

パターン形成材料を噴射する複数のノズルをパターンが形成される基板と相対する位置に備えたヘッドと、前記ヘッドと基板間の隙間を測定する検出器と、前記測定結果により基板とヘッドの相対的な姿勢および前記隙間が一定となるよう保持する機構と、基板を保持した状態で、基板表面に平行な平面内における基板とへッドの相対位置情報を測定しながら基板とへッドを相対的に移動させる計測・制御手段と、前記基板に描かれたパターンあるいは基準マークの位置を測定する手段と、前記測定結果に基づきパターンあるいは基準マークに対してヘッドの位置を調整する調整手段と、パターン情報を作成する手段とを具備し、前記パターン情報をヘッドの吐出制御部に入力し、前記相対位置情報によりへッドからパターン形成材料を吐出し所望のパターンを描画し形成することを特徴とするパターン形成装置。

IPC (6件)：

B05C 5/00 101 ,  B05D 1/26 ,  G02F 1/13 101 ,  H01L 21/3205 ,  H05K 3/10 ,  G03F 7/16 501

FI (6件)：

B05C 5/00 101 ,  B05D 1/26 ,  G02F 1/13 101 ,  H05K 3/10 D ,  G03F 7/16 501 ,  H01L 21/88 B