特許

J-GLOBAL ID：200903041095733364

孔位置の光学的計測方法

発明者： 小田 幸治 ,  山岡 直次
出願人/特許権者： 本田技研工業株式会社
代理人 (1件)： 北村 欣一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-259176
公開番号（公開出願番号）：特開平10-105719
出願日： 1996年09月30日
公開日（公表日）： 1998年04月24日
要約：

【要約】【課題】 ワークの孔を撮像した画面に現われる孔画像の位置を正確に計測できるようにする。【解決手段】 濃淡付きの画面を微分処理して、孔画像の孔縁部brを強調した微分化画面を作成し(A)、微分化画面に対しテンプレートTPを用いてパターンマッチングを行い、孔画像の概略中心m ́の位置を割出す(B)。概略中心m ́を中心とする複数の放射方向に走査線LSCを設定し、各走査線上の輝度分布から孔画像bの孔縁部の各走査線に合致する孔縁点Pbの座標を検出する(C)。

請求項（抜粋）：

ワークに設けられた孔の位置を光学的に計測する方法であって、ワークを撮像したときに撮像画面に現われる孔画像の概略中心位置を割出す第1工程と、割出された概略中心位置を基準にして孔画像の孔縁部の複数箇所に交差するように複数の計測箇所を設定する第2工程と、孔画像の孔縁部の各計測箇所に合致する孔縁点の座標を検出する第3工程とを備えるものにおいて、前記第2工程は、前記概略中心位置を中心とする複数の放射方向に沿って前記複数の計測箇所を設定するように構成される、ことを特徴とする孔位置の光学的計測方法。

IPC (3件)：

G06T 7/60 ,  G01B 11/00 ,  G06T 7/00

FI (5件)：

G06F 15/70 350 B ,  G01B 11/00 D ,  G01B 11/00 H ,  G06F 15/62 400 ,  G06F 15/70 455 A

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭60-179881
  
• 画像処理方法および装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-237456   出願人：株式会社ニコン