特許

J-GLOBAL ID：200903041096344264

表面処理用組成物及びゴムの表面処理方法

発明者： 下津 弘義 ,  高橋 敏廣
出願人/特許権者： 東芝シリコーン株式会社
代理人 (1件)： 古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-195672
公開番号（公開出願番号）：特開平7-048544
出願日： 1993年08月06日
公開日（公表日）： 1995年02月21日
要約：

【要約】【目的】 各種基材、特にゴム表面に非粘着性を付与し、均一に表面を仕上げ得る表面処理用組成物を提供する。【構成】 (A) 25°Cにおける粘度が50〜10,000,000 cStの両末端が水酸基閉塞のポリジオルガノシロキサン、(B) ケイ素原子に結合した水素原子が1分子中に少なくとも3個存在するポリオルガノハイドロジェンシロキサン、(C) 硬化触媒及び(D) 炭素数7〜10の分岐状アルキル系飽和炭化水素を40重量%以上含む有機溶媒とを含有する表面処理用組成物。

請求項（抜粋）：

(A) 25°Cにおける粘度が50〜10,000,000 cStの両末端が水酸基閉塞のポリジオルガノシロキサン(B) ケイ素原子に結合した水素原子が1分子中に少なくとも3個存在するポリオルガノハイドロジェンシロキサン(C) 硬化触媒(D) 炭素数7〜10の分岐状アルキル系飽和炭化水素を40重量%以上含む有機溶媒とを含有する表面処理用組成物。

IPC (4件)：

C09D183/06 PMU ,  C08J 7/04 CEQ ,  C08L 83/05 ,  C08L 83/06 LRZ