特許
J-GLOBAL ID：200903041129245933
ゼオライト膜の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
服部 雅紀
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-259166
公開番号（公開出願番号）：特開平7-089714
出願日： 1993年09月22日
公開日（公表日）： 1995年04月04日
要約：
【要約】【目的】 ガス分離効果のため適度の気密性を有し、また透過性能を向上させるため薄膜化が可能な緻密で十分薄いゼオライト膜を、セラミックス多孔体表面に工業的に形成するゼオライト膜の製造方法を提供する。【構成】 セラミックス多孔体基板表面に、アルカリ金属、ケイ素およびアルミニウムの成分を含むゾルを塗布し、乾燥してゲル化するか、ゲルの懸濁液を塗布して乾燥し、有機アミン、アルコールと水とから選択される一種以上の蒸気に曝露する。セラミックス多孔体はアルミナ、マグネシア、スピネル、窒化ケイ素、炭化ケイ素等のセラミックスであり、少なくともゾルが塗布される表面近傍は気孔径が5μm以下である。またゾルあるいはゲルの懸濁液は、アルカリ金属ケイ酸塩とアルミニウム塩の溶液を酸またはアルカリによってpH調整したものから調製する。ゾルの塗布後の乾燥によるゲル化、あるいはゲルの懸濁液の塗布後の乾燥は、加熱、あるいは真空蒸発、送風等により行う。有機アミン、アルコールと水とから選択される一種以上の蒸気中の曝露は、還流塔、オートクレーブ等により行う。
請求項（抜粋）：
セラミックス多孔体基板表面に、アルカリ金属、ケイ素およびアルミニウムの成分を含むゾルあるいはゲルの懸濁液を塗布し、乾燥してゲルの膜とし、有機アミン、アルコ-ルと水とから選択される一種以上の蒸気に曝露することを特徴とするゼオライト膜の製造方法。
IPC (4件)：
C01B 39/02
, B01D 71/02 500
, B01J 20/18
, C04B 41/85
