特許
J-GLOBAL ID：200903041132346821
鱗片状の低結晶性シリカとその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 信夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-179120
公開番号（公開出願番号）：特開平11-029317
出願日： 1997年06月20日
公開日（公表日）： 1999年02月02日
要約：
【要約】【課題】 人体に無害であり、表面の反応性に優れる、化粧料、制汗剤、パック剤、塗料もしくは樹脂などのフィラーや各種担体等の用途に好適に使用できる、鱗片状の低結晶性シリカ及びその製造方法を提供する。【解決手段】 厚さ0.001〜1μm、厚さに対する鱗片状板の最長長さの比(アスペクト比)10以上、厚さに対する鱗片状板の最小長さの比3以上の鱗片状のシリカで、結晶型遊離珪酸の測定値10%未満、IRスペクトルの3600〜3700、3400〜3500cm-1にシラノール基の吸収を有する低結晶性の鱗片状シリカ及び珪酸アルカリ水溶液を脱アルカリして得られるシリカゾルを水熱処理するその製造方法。
請求項（抜粋）：
厚さが0.001〜1μmの鱗片状板からなり、該厚さに対する該鱗片状板の最長長さの比(アスペクト比)が少なくとも10、該厚さに対する該鱗片状板の最小長さの比が少なくとも3を有する鱗片状のシリカであって、かつ、X線回折分析法による結晶型遊離珪酸の測定値が10%未満であることを特徴とする低結晶性の鱗片状シリカ。
引用特許：
審査官引用 (6件)
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特開平2-258615
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特開平4-145011
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特公昭50-015756
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引用文献：
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