特許
J-GLOBAL ID:200903041132668128

透明な積層基板、その使用方法および積層方法、基材への積層方法および装置、ならびに酸化窒化ハフニウム

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青木 朗 (外4名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-332794
公開番号(公開出願番号):特開平5-254887
出願日: 1992年12月14日
公開日(公表日): 1993年10月05日
要約:
【要約】【目的】 透視可能な部材の反射および消光定数を減少させる。【構成】 基材20の少なくとも1つの側の上に、透明な多層からなる層系23,24を有し、その少なくとも1層をハフニウム、ジルコニウム、タンタルまたはチタンの酸化窒化物の層とする。この層を形成する反応性蒸着法に使用する混合ガスは予め十分に混合しておく。ハフニウム酸化窒化物は屈折率が2.6〜2.8、消光定数Kが0.02以下である。
請求項(抜粋):
基板の少なくとも1つの側の上に透明な多層からなる層系を有し、その少なくとも1層が、ハフニウム、ジルコニウム、タンタルまたはチタンの酸化窒化物の層であることを特徴とする透視可能な部材を構成するための透明な積層基板。
IPC (5件):
C03C 17/34 ,  B32B 7/02 103 ,  B32B 17/06 ,  B60J 1/00 ,  C03C 17/02
引用特許:
審査官引用 (3件)

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