特許
J-GLOBAL ID:200903041147770735

不飽和ジカルボン酸物質のポリアルケニル誘導体の製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 川口 義雄 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-303778
公開番号(公開出願番号):特開平5-230131
出願日: 1992年11月13日
公開日(公表日): 1993年09月07日
要約:
【要約】【構成】 950〜5000の範囲のMn を有するポリアルケンをモノエチレン性不飽和C4-10ジカルボン酸物質と、1:1より大きいジカルボン酸物質:ポリアルケンのモル比で150〜260°Cの範囲の温度で重付加を禁止する量のスルホン酸の存在下で反応させることを包含する、ポリアルケニル鎖あたりのジカルボン酸部分の比が1.2:1未満であるモノエチレン性不飽和C4-10ジカルボン酸物質のポリアルケニル誘導体の製造方法。【効果】 得られるポリアルケニル誘導体は、潤滑組成物中の無灰分散剤生成物と他の添加剤成分との間に生じる潜在的問題(粘度、相互作用)を最小にする。
請求項(抜粋):
950〜5000の範囲のMn を有するポリアルケンをモノエチレン性不飽和C4-10ジカルボン酸物質と、1:1より大きいジカルボン酸物質:ポリアルケンのモル比で150〜260°Cの範囲の温度で重付加を禁止する量のスルホン酸の存在下で反応させることを包含する、ポリアルケニル鎖あたりのジカルボン酸部分の比が1.2:1未満であるモノエチレン性不飽和C4-10ジカルボン酸物質のポリアルケニル誘導体の製造方法。

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