特許

J-GLOBAL ID：200903041149012552

低PDLビームスプリッタ

発明者： ルーディガー・マエストル ,  ベルント・ネベンダール
出願人/特許権者： アジレント・テクノロジーズ・インク
代理人 (1件)： 古谷 馨 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-353510
公開番号（公開出願番号）：特開2003-222710
出願日： 2002年12月05日
公開日（公表日）： 2003年08月08日
要約：

【要約】【課題】偏光依存損失(PDL)の小さいビームスプリッタの提供。【解決手段】ヒ ゙ームスフ ゚リッタは、光軸に対して角度αをなして第1の入射ヒ ゙ーム(40)を第1の表面(60A)において受光するスフ ゚リット装置(60)を含む。前記第1の入射ヒ ゙ーム(40)の第1の部分(70)が第1の入射ヒ ゙ームに対して反対側に光軸に対して角度αで反射される。第2のヒ ゙ーム(80)は、スフ ゚リット装置(60)を透過する。角度αは、反射された部分(70)が第1の入射ヒ ゙ーム(40)の偏光状態に実質的に依存しないように選択される。

請求項（抜粋）：

ビームスプリッタであって、光軸に対して角度αをなして第1の入射ビーム(40)を第1の表面(60A)において受光し、前記光軸に対して前記角度αで前記第1の入射ビーム(40)の第1の部分(70)を前記第1の入射ビームに対して反対側に前記第1の表面(60A)において反射するように適合されたスプリット装置(60)であって、そのスプリット装置(60)を透過した第2のビーム(80)を提供するように適合された、スプリット装置(60)を含み、前記第1の反射された部分(70)が、実質的に前記第1の入射ビーム(40)の偏光の状態に依存しないように、前記角度αが選択される、ビームスプリッタ。

IPC (5件)：

G02B 5/00 ,  G02B 5/30 ,  G02B 6/26 ,  G02B 6/28 ,  G02B 6/32

FI (5件)：

G02B 5/00 C ,  G02B 5/30 ,  G02B 6/26 ,  G02B 6/32 ,  G02B 6/28 R

Fターム (12件)：

2H037BA32 ,  2H037CA10 ,  2H037CA13 ,  2H037DA04 ,  2H037DA05 ,  2H042AA02 ,  2H042AA04 ,  2H042AA16 ,  2H049BA06 ,  2H049BA12 ,  2H049BA43 ,  2H049BB03

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 米国特許第4,492,439号明細書