特許
J-GLOBAL ID：200903041154290030
パターン形成材料及びそれを用いたパターン形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-074990
公開番号（公開出願番号）：特開平10-268518
出願日： 1997年03月27日
公開日（公表日）： 1998年10月09日
要約：
【要約】【課題】放射線描画後の加熱処理時に生じるウエハ面内の温度分布に感度が影響を受けない、高感度,高解像性をもつパターン形成材料を提供する。【解決手段】アルカリ可溶性高分子,芳香環に直接結合した炭素上に水酸基を有する三級アルコール,放射線の照射により酸を発生する酸前駆体、ならびに下記一般式(1)〜(8)で表わされる群から選ばれた少なくとも一種類の塩基性化合物を含む(ここでR1〜R7は水素,炭素数1〜4の置換または無置換アルキル基,フェニル基,ベンジル基,フェネチル基,ピリジル基,シクロヘキシル基,p-トリル基,キノリル基,アリル基,メトキシメチル基の中から選ばれる原子または原子団を表わし、R1〜R7は同一であってもよく、異なっていてもよい)。【化1】
請求項（抜粋）：
アルカリ可溶性高分子,芳香環に直接結合した炭素上に水酸基を有する三級アルコール,放射線の照射により酸を発生する酸前駆体、ならびに下記一般式(1)〜(8)で表わされる群から選ばれた少なくとも一種類の塩基性化合物を含むことを特徴とするパターン形成材料(ここでR1〜R7は水素,炭素数1〜4の置換または無置換アルキル基,フェニル基,ベンジル基,フェネチル基,ピリジル基,シクロヘキシル基,p-トリル基,キノリル基,アリル基,メトキシメチル基の中から選ばれる原子または原子団を表わし、R1〜R7は同一であってもよく、異なっていてもよい)。【化1】【化2】【化3】【化4】【化5】【化6】【化7】【化8】
IPC (4件)：
G03F 7/038 601
, G03F 7/038 501
, C09D 5/00
, H01L 21/027
G03F 7/038 601
, G03F 7/038 501
, C09D 5/00 C
, H01L 21/30 502 R
