特許

J-GLOBAL ID：200903041161218930

ポリオール化合物およびその製造方法

発明者： 北原 義孝 ,  姜 健
出願人/特許権者： ホーヤ株式会社
代理人 (1件)： 中村 静男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-165523
公開番号（公開出願番号）：特開2000-355590
出願日： 1999年06月11日
公開日（公表日）： 2000年12月26日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 高屈折率、低分散で、透明性に優れ、かつ耐溶剤性、耐熱性、耐衝撃性、耐候性も良好な光学材料を与えることができる新規なポリオール化合物及び製造法を提供すること。【解決手段】 一般式(I)(式中、m及びnは、それぞれ独立に1〜3の整数を示す。)で表されることを特徴とするポリオール化合物及び一般式(II)(式中、mは1〜3の整数を示す。)で表される2,5-ビス(メルカプトアルキル)-1,4-ジチアンに、一般式(III)(式中、XはCl、BrまたはIを示し、nは1〜3の整数を示す。)で表されるハロゲノアルキルアルコールを反応させることを特徴とする、請求項1または2に記載の、一般式(I)で表されるポリオール化合物の製造方法。

請求項（抜粋）：

一般式(I)【化1】(式中、mおよびnは、それぞれ独立に1〜3の整数を示す。)で表されることを特徴とするポリオール化合物。

IPC (7件)：

C07D339/08 ,  G02B 1/04 ,  G02B 6/00 391 ,  C08F 20/38 ,  C08G 18/38 ,  C08G 63/688 ,  C08G 64/00

FI (7件)：

C07D339/08 ,  G02B 1/04 ,  G02B 6/00 391 ,  C08F 20/38 ,  C08G 18/38 Z ,  C08G 63/688 ,  C08G 64/00

Fターム (24件)：

2H050AA13 ,  2H050AB42Z ,  4C023PA07 ,  4J029AE04 ,  4J029BH02 ,  4J029DB06 ,  4J029DB17 ,  4J034CA04 ,  4J034CB03 ,  4J034CB07 ,  4J034CC29 ,  4J034CC39 ,  4J034CC45 ,  4J034CC52 ,  4J034CC62 ,  4J034CC65 ,  4J034CD08 ,  4J034RA13 ,  4J100AL65P ,  4J100BA38P ,  4J100BA51P ,  4J100BC83P ,  4J100CA01 ,  4J100JA33

引用特許：

審査官引用 (6件)

• 特開平4-161410
  
• 特開平3-236386
  
• 新規なエピスルフィド化合物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-006790   出願人：三菱瓦斯化学株式会社
• チウロニウム塩及びそれを用いた2,5-ビス(メルカプトメチル)-1,4-ジチアンの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平3-156939   出願人：ホーヤ株式会社
• 特開平4-161410
  
• 特開平3-236386
  

引用文献：

審査官引用 (2件)

• Advanced organic chemistry, 1985, pp.360-361
• 第4版実験化学講座24 有機合成VI -ヘテロ元素・典型金属元素化合物-, 1992, pp.336-341