特許

J-GLOBAL ID：200903041162111098

露光装置

発明者： 河津 秀雄 ,  関口 英明 ,  山田 俊彦 ,  山口 誠
出願人/特許権者： 株式会社荏原製作所
代理人 (1件)： 高橋 敏忠 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-146094
公開番号（公開出願番号）：特開平8-017705
出願日： 1994年06月28日
公開日（公表日）： 1996年01月19日
要約：

【要約】【目的】 気相状態の化学的不純物(不純物蒸気)が露光装置(ステッパ)内に侵入することにより発生する各種不都合の防止。【構成】 前記吸気系(22)には吸気用ファン(50)と、ケミカルフィルタ(52)と、パーティクルフィルタ(54)とが介装されており、そのケミカルフィルタ(52)は濾材がイオン交換体で構成されており、パーティクルフィルタ(54)は該ケミカルフィルタ(52)の下流側に配置されている。或いは、該吸気系(22)には、ケミカルフィルタ(52)と、有機物除去用フィルタ(62)とが介装されており、有機物除去用フィルタ(62)はケミカルフィルタ(52)の下流側に配置されている。または、吸気系(22)には有機物除去用フィルタ(62)と、ケミカルフィルタ(52)と、パーティクルフィルタ(54)とが介装されており、有機物除去用フィルタ(62)はケミカルフィルタ(52)の上流側に配置され且つパーティクルフィルタ(54)はケミカルフィルタ(52)の下流側に配置されている。

請求項（抜粋）：

レジストを塗布したウエハを載置して保持するステージと、露光用の光源と、複数のレンズやミラーを含む光学系と、吸気系及び排気系とを備え、フォトマスク上に形成された集積回路用の微細パターンをレジストを塗布したウエハの全面に露光する露光装置において、前記吸気系には吸気用ファンと、ケミカルフィルタと、パーティクルフィルタとが介装されており、そのケミカルフィルタは濾材がイオン交換体で構成されており、パーティクルフィルタは該ケミカルフィルタの下流側に配置されていることを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

H01L 21/027 ,  B01D 53/04 ZAB ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 527 ,  H01L 21/30 515 D