特許

J-GLOBAL ID：200903041163211924

タンデム反応器におけるバイモーダルエチレンポリマーの製造方法

発明者： アフマツド・フセイン・アリ ,  ロバート・オールズ・ハガーテイ ,  シーメイ・クリステイン・オン
出願人/特許権者： モービル・オイル・コーポレイシヨン
代理人 (1件)： 湯浅 恭三 (外6名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-049908
公開番号（公開出願番号）：特開平5-086122
出願日： 1992年03月06日
公開日（公表日）： 1993年04月06日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 タンデム反応器中での気相流動床重合によって、相対的に高分子量及び低分子量のポリマー混合物からなるバイモーダルエチレンポリマー組成物を製造する。【構成】 第1気相流動床反応帯域で、過半量のエチレンよりなる気体単量体組成物及び任意に水素と、チーグラー・ナッタ触媒とを、約0.3以下の水素/エチレンのモル比及び約100psia以下のエチレン分圧で接触させて、触媒と会合した相対的に高分子量ポリマーを製造し、この高分子量ポリマーを、水素及び、過半量のエチレンよりなる気体単量体組成物を供給する、H2/C2比が少なくとも約0.9かつ第1反応帯域の少なくとも約8.0倍そしてエチレン分圧が第1反応帯域の少なくとも1.7倍の重合条件の第2気相流動床反応帯域へ送って、高分子量ポリマー/触媒粒子の上及びボイド内に付着した低分子量ポリマーを製造する、バイモーダルエチレンポリマーブレンドの製法。第2反応帯域から得られるバイモーダルポリマーブレンドの高分子量ポリマーの分率が少なくとも約0.35である。

請求項（抜粋）：

バイモーダルエチレンポリマーブレンドの製法であって、1) 重合条件下の第1の気相流動床反応器内において、過半量のエチレンよりなる気体単量体組成物及び任意に水素と、主触媒成分としての遷移金属化合物、及び、還元助触媒としての金属水素化物又は有機金属化合物よりなるチグラー・ナッタ又は配位触媒とを、約0.3以下の水素/エチレンモル比(H2/C2比)、及び約100psia以下のエチレン分圧で接触させて、触媒粒子と会合した相対的に高分子量(HMW)のポリマーを製造し;2) HMWポリマー/触媒粒子の上及びボイド内に付着した低分子量(LMW)ポリマーを製造するために、触媒粒子と会合したHMWポリマーを第2の気相流動床反応帯域へ移し、ここで、第2の気相流動床反応帯域へは、水素及び過半量のエチレンよりなるガス状単量体組成物を供給するが、触媒の遷移金属成分は加えず、少なくとも約0.9のH2/C2比且つ少なくとも第1反応帯域における約8.0倍のH2/C2比、及び少なくとも第1反応帯域における1.7倍のエチレン分圧の重合条件下で重合し、第2反応帯域から得られるバイモーダルポリマーブレンドは少なくとも約0.35のHMWポリマー分率を有する、上記の製法。

IPC (2件)：

C08F 10/02 ,  C08F 10/02 MSU

引用特許：

出願人引用 (4件)

• 特開昭64-036607
  
• 特開昭58-001708
  
• 特開昭64-036607
  
• 特開昭58-001708
  

審査官引用 (4件)

• 特開昭64-036607
  
• 特開昭64-036607
  
• 特開昭58-001708
  
• 特開昭58-001708