特許
J-GLOBAL ID：200903041167063733
化学めっき用レジスト樹脂組成物
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
横山 吉美 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-354991
公開番号（公開出願番号）：特開平5-171084
出願日： 1991年12月20日
公開日（公表日）： 1993年07月09日
要約：
【要約】【目的】速硬化性、解像性に優れた厚膜形成可能な化学めっき用レジスト樹脂成物を提供する。【構成】成分A:25°Cにおける粘度が150ポイズ以上の、1分子中に少なとも2個のグリシジルエーテル基を有し、かつ、このグリシジルエーテル基が香環に直接結合したエポキシ樹脂、成分B:沸点が140°C以上、かつ、分子量が500以下のオキシラ環含有化合物、成分C:熱潜在性カチオン重合開始剤、及び成分D:光感知性カチオン重合開始剤を主成分として含有してなる化学めっき用レジスト樹脂組成物。【効果】本発明の該樹脂組成物は、速硬化性、解像性に極めて優れ、かつ厚膜の化学めっき用レジストパターンをスクリーン印刷法で形成することができ、アディティブ法による導体厚みの大きい回路パターンの合理的な形成を可能にする。
請求項（抜粋）：
下記成分A,B,C及びDを含有することを特徴とする化学めっき用レジスト樹脂組成物。成分A:25°Cにおける粘度が150ポイズ以上の、1分子中に少なくとも2個のグリシジルエーテル基を有し、かつ、このグリシジルエーテル基が芳香環に直接結合したエポキシ樹脂成分B:沸点が140°C以上、かつ、分子量が500以下のオキシラン環含有化合物成分C:熱潜在性カチオン重合開始剤成分D:光感知性カチオン重合開始剤
IPC (5件)：
C09D 11/00 PTE
, C08G 59/20 NHQ
, C08G 59/68 NKL
, C09D 11/02 PTV
, H05K 3/18
