特許

J-GLOBAL ID：200903041168335125

停止化合物を伴う化学機械的研磨系及びその使用方法

発明者： ワン,シュミン ,  ブラシック カウフマン,ブラスタ ,  グランバイン,スティーブン ケー. ,  チョウ,レンジエ ,  ケリアン,アイザック ケー.
出願人/特許権者： キャボット マイクロエレクトロニクス コーポレイション
代理人 (5件)： 石田 敬 ,  鶴田 準一 ,  福本 積 ,  西山 雅也 ,  樋口 外治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-349782
公開番号（公開出願番号）：特開2006-121101
出願日： 2005年12月02日
公開日（公表日）： 2006年05月11日
要約：

【課題】第1の金属層及び第2の層を有する多層基体の1又は複数の層を研磨する系を提供する。【解決手段】本発明の系は、(i)液体キャリア、(ii)少なくとも1種の酸化剤、(iii)系が基体の少なくとも1つの層を研磨する速度を増加させる少なくとも1種の研磨添加剤、並びに(v)研磨パッド及び/又は研磨材を含み、研磨添加剤が、ピロリン酸塩、縮合リン酸塩、ホスホン酸及びそれらの塩、アミン、アミノアルコール、アミド、イミン、イミノ酸、ニトリル、ニトロ、チオール、チオエステル、チオエーテル、カルボチオール酸、チオカルボキシル酸、チオサリチル酸、及びそれらの混合からなる群より選択される。また本発明は、系を基体の表面に接触させること、及びこの系によって基体の少なくとも一部を研磨することを含む、基体の研磨方法を提供する。【選択図】なし

請求項（抜粋）：

(i)液体キャリア、(ii)少なくとも1種の酸化剤、(iii)系が基体の少なくとも1つの層を研磨する速度を増加させる少なくとも1種の研磨添加剤、並びに(iv)研磨パッド及び/又は研磨材を含み、前記研磨添加剤が、ピロリン酸塩、縮合リン酸塩、ホスホン酸及びそれらの塩、アミン、アミノアルコール、アミド、イミン、イミノ酸、ニトリル、ニトロ、チオール、チオエステル、チオエーテル、カルボチオール酸、カルボチオン酸、チオカルボキシル酸、チオサリチル酸、及びそれらの混合からなる群より選択される、第1の金属層及び第2の層を有する多層基体の1又は複数の層を研磨する系。

IPC (3件)：

H01L 21/304 ,  B24B 37/00 ,  C09K 3/14

FI (4件)：

H01L21/304 622D ,  B24B37/00 H ,  C09K3/14 550D ,  C09K3/14 550Z

Fターム (8件)：

3C058AA07 ,  3C058CB01 ,  3C058CB02 ,  3C058CB03 ,  3C058CB07 ,  3C058DA02 ,  3C058DA12 ,  3C058DA17

引用特許：

出願人引用 (16件)

• 米国特許第5,741,626号
  
• 米国特許第5,476,606号
  
• 米国特許第5,770,095号
  
• 米国特許第4,956,313号
  
• 米国特許第5,137,544号
  
• 米国特許第5,157,876号
  
• 米国特許第5,354,490号
  
• 米国特許第5,527,423号
  
• 米国特許第4,789,648号
  
• 米国特許第4,671,851号
  
• 米国特許第4,910,155号
  
• 米国特許第4,944,836号
  
• 米国特許第5,244,534号
  
• 米国特許第5,209,816号
  
• 米国特許第5,340,370号
  
• 米国特許第5,391,258号
  

審査官引用 (4件)

• 化学的・機械的研磨用の複数酸化剤スラリー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-258500   出願人：キャボットコーポレイション
• 銅系基板に有用な化学的・機械的研磨用スラリー
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平9-338809   出願人：キャボットコーポレイション
• 特開平3-202269
  
• 研磨液組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-119690   出願人：花王株式会社