特許
J-GLOBAL ID：200903041170768250
磁気記録媒体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小池 晃 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-331844
公開番号（公開出願番号）：特開平9-171618
出願日： 1995年12月20日
公開日（公表日）： 1997年06月30日
要約：
【要約】【課題】 ウェット・オン・ウェット塗布方式によって下層非磁性層、上層磁性層を有する磁気記録媒体を製造するに際して、下層上層界面や上層磁性層表面が良好な状態で形成できるようにする。それによって、電磁変換特性に優れるとともにRFエンベロープの形状も良好であり、またドロップアウトが抑えられ、走行性、耐久性にも優れ、高密度記録に好適な磁気記録媒体の製造を可能にする。【解決手段】 少なくとも下層用非磁性塗料の貯蔵弾性率G’を所定の条件を満たすように規制する。
請求項（抜粋）：
非磁性支持体上に、非磁性粉末及び結合剤を溶剤とともに分散させることで調製された非磁性塗料を塗布して下層塗膜を形成した後、この下層塗膜が湿潤状態である間に、当該下層塗膜上に、磁性粉末及び結合剤を溶剤とともに分散させることで調製された磁性塗料を塗布することで上層塗膜を形成するに際して、上記非磁性塗料の歪み制御式粘度計によって測定される貯蔵弾性率G’を、歪み1%、角速度1rad/秒での貯蔵弾性率G’(1)と、歪み1%、角速度10rad/秒での貯蔵弾性率G’(10)が下記の条件を満たすように設定することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。15Pa≦G’(1)≦50Pa20Pa≦G’(10)≦100PaG’(10)/G’(1)≦2.5
IPC (5件)：
G11B 5/842
, B05D 1/36
, B05D 5/12
, C09D 5/23 PQV
, G11B 5/70
G11B 5/842 Z
, B05D 1/36 B
, B05D 5/12 A
, C09D 5/23 PQV
, G11B 5/70
