特許
J-GLOBAL ID:200903041174014519

高分子樹脂積層体及びその製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 前田 純博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-328485
公開番号(公開出願番号):特開2002-127286
出願日: 2000年10月27日
公開日(公表日): 2002年05月08日
要約:
【要約】【課題】 積層体の耐磨耗性、表面硬度、耐光性、耐水性のすべてに優れる高分子樹脂/ハードコート積層体を実現することを目的とする。【解決手段】 高分子樹脂基板の少なくとも一方の面に、厚みが2〜50μmで、層単独での鉛筆硬度がF以上である活性光線硬化層と、真空蒸着プロセスを用いて形成された厚みが1.5〜10μmで、層の表面を最大荷重100μNの条件でナノインデンテーション測定を行った場合の、最大変位が120nm以下、ヤング率が15GPa以上、かつ塑性変形硬さが3GPa以上のハードコート層とが、この順に積層されてなる高分子樹脂積層体。
請求項(抜粋):
高分子樹脂基板の少なくとも一方の面に、厚みが2〜50μmで、層単独での鉛筆硬度がF以上である活性光線硬化層と、真空成膜プロセスを用いて形成された厚みが1.5〜10μmで、層の表面を最大荷重100μNの条件でナノインデンテーション測定を行った場合の、最大変位が120nm以下、ヤング率が15GPa以上、かつ塑性変形硬さが3GPa以上のハードコート層とが、この順に積層されてなる高分子樹脂積層体。
IPC (5件):
B32B 7/02 101 ,  B32B 9/00 ,  B32B 27/18 ,  B32B 27/30 ,  B32B 27/36 102
FI (5件):
B32B 7/02 101 ,  B32B 9/00 A ,  B32B 27/18 A ,  B32B 27/30 A ,  B32B 27/36 102
Fターム (61件):
4F100AA20C ,  4F100AA20D ,  4F100AA20E ,  4F100AH07B ,  4F100AH07H ,  4F100AK01A ,  4F100AK25B ,  4F100AK25E ,  4F100AK45A ,  4F100AR00B ,  4F100AT00A ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100BA06 ,  4F100BA07 ,  4F100BA10A ,  4F100BA10C ,  4F100BA13 ,  4F100CA07B ,  4F100CC00C ,  4F100CC00E ,  4F100EH462 ,  4F100EH66C ,  4F100EH66D ,  4F100EH66E ,  4F100EH662 ,  4F100EJ52B ,  4F100EJ52E ,  4F100EJ522 ,  4F100EJ542 ,  4F100GB07 ,  4F100GB32 ,  4F100JA20A ,  4F100JA20B ,  4F100JA20C ,  4F100JA20D ,  4F100JA20E ,  4F100JB07 ,  4F100JB14B ,  4F100JB14E ,  4F100JD14B ,  4F100JD15B ,  4F100JD15E ,  4F100JK01C ,  4F100JK07C ,  4F100JK07E ,  4F100JK09 ,  4F100JK12 ,  4F100JK12B ,  4F100JK12C ,  4F100JK12E ,  4F100JK14 ,  4F100JN01 ,  4F100JN30 ,  4F100YY00 ,  4F100YY00A ,  4F100YY00B ,  4F100YY00C ,  4F100YY00D ,  4F100YY00E

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