特許
J-GLOBAL ID:200903041174014519
高分子樹脂積層体及びその製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
前田 純博
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2000-328485
公開番号(公開出願番号):特開2002-127286
出願日: 2000年10月27日
公開日(公表日): 2002年05月08日
要約:
【要約】【課題】 積層体の耐磨耗性、表面硬度、耐光性、耐水性のすべてに優れる高分子樹脂/ハードコート積層体を実現することを目的とする。【解決手段】 高分子樹脂基板の少なくとも一方の面に、厚みが2〜50μmで、層単独での鉛筆硬度がF以上である活性光線硬化層と、真空蒸着プロセスを用いて形成された厚みが1.5〜10μmで、層の表面を最大荷重100μNの条件でナノインデンテーション測定を行った場合の、最大変位が120nm以下、ヤング率が15GPa以上、かつ塑性変形硬さが3GPa以上のハードコート層とが、この順に積層されてなる高分子樹脂積層体。
請求項(抜粋):
高分子樹脂基板の少なくとも一方の面に、厚みが2〜50μmで、層単独での鉛筆硬度がF以上である活性光線硬化層と、真空成膜プロセスを用いて形成された厚みが1.5〜10μmで、層の表面を最大荷重100μNの条件でナノインデンテーション測定を行った場合の、最大変位が120nm以下、ヤング率が15GPa以上、かつ塑性変形硬さが3GPa以上のハードコート層とが、この順に積層されてなる高分子樹脂積層体。
IPC (5件):
B32B 7/02 101
, B32B 9/00
, B32B 27/18
, B32B 27/30
, B32B 27/36 102
FI (5件):
B32B 7/02 101
, B32B 9/00 A
, B32B 27/18 A
, B32B 27/30 A
, B32B 27/36 102
Fターム (61件):
4F100AA20C
, 4F100AA20D
, 4F100AA20E
, 4F100AH07B
, 4F100AH07H
, 4F100AK01A
, 4F100AK25B
, 4F100AK25E
, 4F100AK45A
, 4F100AR00B
, 4F100AT00A
, 4F100BA03
, 4F100BA04
, 4F100BA05
, 4F100BA06
, 4F100BA07
, 4F100BA10A
, 4F100BA10C
, 4F100BA13
, 4F100CA07B
, 4F100CC00C
, 4F100CC00E
, 4F100EH462
, 4F100EH66C
, 4F100EH66D
, 4F100EH66E
, 4F100EH662
, 4F100EJ52B
, 4F100EJ52E
, 4F100EJ522
, 4F100EJ542
, 4F100GB07
, 4F100GB32
, 4F100JA20A
, 4F100JA20B
, 4F100JA20C
, 4F100JA20D
, 4F100JA20E
, 4F100JB07
, 4F100JB14B
, 4F100JB14E
, 4F100JD14B
, 4F100JD15B
, 4F100JD15E
, 4F100JK01C
, 4F100JK07C
, 4F100JK07E
, 4F100JK09
, 4F100JK12
, 4F100JK12B
, 4F100JK12C
, 4F100JK12E
, 4F100JK14
, 4F100JN01
, 4F100JN30
, 4F100YY00
, 4F100YY00A
, 4F100YY00B
, 4F100YY00C
, 4F100YY00D
, 4F100YY00E
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