特許
J-GLOBAL ID:200903041174583416

投影露光装置の焦点合わせ装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 勝男
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-247607
公開番号(公開出願番号):特開平6-097036
出願日: 1992年09月17日
公開日(公表日): 1994年04月08日
要約:
【要約】【目的】本発明は、最適露光焦点位置(合焦点位置)を求めるための先行評価作業を無くし、LSI製造における高スループット化と最適露光焦点位置(合焦点位置)を高精度に求めるための投影露光装置の焦点合わせ装置を提供することを目的とする。【構成】可動テーブルを投影光学系の光軸方向にステップ移動あるいは連続移動し、移動に同期してスリットパターンを透過する光を光検出器により光量検出し、その最大光量位置を検出すことにより合焦点位置を検出,補正する投影露光装置の焦点合わせ装置。
請求項(抜粋):
マスク上にある回路パターンをウェハ上に投影露光する投影露光装置において、マスク上にテストパターンを配置し上記テストパターン像を投影光学系を通してウェハを搭載する可動テーブル上に設けたプレート上に結像し、上記可動テーブルを移動して上記プレートに設けたテストパターン像と光学的に等価なスリットパターンを透過する光を光検出器により検出するようにした投影露光装置の焦点合わせ装置において、上記可動テーブルを上記投影光学系の光軸方向にステップ移動あるいは連続移動し、移動に同期して上記スリットパターンを透過する光を上記光検出器により光量検出し、その最大光量位置を検出することにより合焦点位置を検出,補正することを特徴とする投影露光装置の焦点合わせ装置。

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