特許
J-GLOBAL ID:200903041188653328

合成天然ガス製造法およびその装置

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-376091
公開番号(公開出願番号):特開2001-158893
出願日: 1999年12月01日
公開日(公表日): 2001年06月12日
要約:
【要約】【目的】 安価な水と炭素を原料としてクリーンな合成天然ガスを高効率で大量生産可能な合成天然ガス製造法およびその装置を提供することを目的とする。【構成】 ハウジング14、16、18内に陰極アッセムブリ48および管状陽極26を配置して、第1、第2反応ゾーンZ1、Z2を有するアーク反応室76を形成し、陽極26と陰極ホルダー22をインレット32に連通する冷却通路手段38および40により冷却し、スチーム発生部50で発生させてスチームをインジェクタリング24を介して第1反応ゾーンZ1に噴出させ、スチームをアークと接触反応させて水素リッチガスを生成し、水素を第2反応ゾーンZ2において炭素含有材79の炭素と接触反応させてメタンリッチガスを得る。
請求項(抜粋):
水導入用インレットおよびメタンリッチガス排出用アウトレットを有するハウジング手段と、ハウジング手段内に支持された第1電極手段と、第1電極手段から間隔をおいて配置された第2電極手段と、第1および第2電極手段間に形成された第1および第2反応ゾーンを有するアーク反応室と、第1および第2反応ゾーン内にそれぞれ充填された粒状水素生成手段および粒状炭素含有材と第1および第2電極手段に給電してアーク反応室内にアークを発生させる給電手段と、インレットとアーク反応室を連結してアーク反応室に水を導入する通路手段とを備える合成天然ガス製造装置。

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