特許
J-GLOBAL ID：200903041191027918
基板表面分析方法および基板表面分析装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮井 暎夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-123184
公開番号（公開出願番号）：特開平9-304309
出願日： 1996年05月17日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：
【要約】【課題】 基板表面近傍の不純物濃度の測定とともに基板表面近傍の結晶性を評価を可能にする。【解決手段】 不純物を導入した基板17の表面上に照射されたX線ビーム12によって発生する蛍光X線および回折X線を検出するX線検出器20および21が設置されている。分析位置25を通り基板17の表面に垂直な軸を中心として基板17を回転させ、X線ビーム12が基板17の表面に入射する方位を変化させる。基板17の表面に照射されたX線ビーム12は特定の入射方位のときにだけ、特定の格子面で回折条件を満たして回折されるので、X線ビーム12の特定の入射方位に対応して回折強度曲線が得られる。基板17へのX線ビーム12の特定の入射方位における回折X線強度は、基板17の結晶性を反映しているので、回折X線強度から分析位置25の表面近傍の結晶性が評価でき、蛍光X線のエネルギー位置とその強度から不純物の種類と濃度がわかる。
請求項（抜粋）：
X線ビームを不純物を導入した基板の表面で全反射するように前記基板の表面の分析点へ照射し、前記分析点を通り前記基板の表面に垂直な軸を中心として前記基板を回転させて前記X線ビームの前記基板の表面への入射方位を変えながら、前記不純物から前記基板の表面と略垂直方向へ発せられる蛍光X線の強度と、前記基板の表面と略垂直方向に回折されるX線の強度とを測定することを特徴とする基板表面分析方法。
IPC (3件)：
G01N 23/223
, G01N 23/207
, H01L 21/66
G01N 23/223
, G01N 23/207
, H01L 21/66 N
