特許
J-GLOBAL ID:200903041192615406

化粧料

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 有賀 三幸 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平3-205915
公開番号(公開出願番号):特開平5-043420
出願日: 1991年08月16日
公開日(公表日): 1993年02月23日
要約:
【要約】【構成】 ポリメチルシルセスキオキサン粉末、及び疎水化処理粉体を含有する化粧料。【効果】 肌への密着性が良好で、化粧くずれが少なく、かつ感触良好な化粧料を得る。
請求項(抜粋):
次の成分(A)及び(B)を含有することを特徴とする化粧料。(A)ポリメチルシルセスキオキサン粉末(B)疎水化処理粉体
IPC (2件):
A61K 7/02 ,  A61K 7/00
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭63-297313
  • 特開平1-268615
  • 特開平1-261316

前のページに戻る