特許

J-GLOBAL ID：200903041210794127

ホトレジスト用剥離液

発明者： 横井 滋 ,  脇屋 和正
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 長谷川 洋子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-164013
公開番号（公開出願番号）：特開2002-357908
出願日： 2001年05月31日
公開日（公表日）： 2002年12月13日
要約：

【要約】【課題】 AlおよびCuの両者の金属配線の防食性に優れ、かつ、ホトレジスト膜およびアッシング後の残渣物の剥離性に優れたホトレジスト用剥離液を提供する。【解決手段】 (a)N,N-ジエチルヒドロキシルアミン、(b)下記一般式(I)〔式中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立にアルキル基(ただし、その構造中に窒素原子を有していてもよい)を示し、かつ、R1〜R4のアルキル基の合計炭素原子数が10以上である〕で表される第4級アンモニウム水酸化物、(c)水溶性有機溶媒(ただし、N,N-ジエチルヒドロキシルアミンを除く)、(d)防食剤、および(e)水を含有するホトレジスト用剥離液。

請求項（抜粋）：

(a)N,N-ジエチルヒドロキシルアミン、(b)下記一般式(I)〔式中、R1、R2、R3、R4は、それぞれ独立にアルキル基(ただし、その構造中に窒素原子を有していてもよい)を示し、かつ、R1、R2、R3、R4のアルキル基の合計炭素原子数が10以上である〕で表される第4級アンモニウム水酸化物、(c)水溶性有機溶媒(ただし、N,N-ジエチルヒドロキシルアミンを除く)、(d)防食剤、および(e)水を含有してなるホトレジスト用剥離液。

IPC (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/30 572 B

Fターム (4件)：

2H096AA25 ,  2H096AA27 ,  2H096LA03 ,  5F046MA02