特許

J-GLOBAL ID：200903041218528019

ブラツクマトリツクスの形成方法

発明者： 宮沢 祥三 ,  大田 勝行 ,  青山 俊身
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 伊東 彰
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-290991
公開番号（公開出願番号）：特開平5-067433
出願日： 1991年08月19日
公開日（公表日）： 1993年03月19日
要約：

【要約】【目的】 パターン形状及び解像性に優れたブラックマトリックスを容易に形成する方法を提供する。【構成】 基板上に水溶性ホトポリマーを用いて光硬化パターンを形成し、次いで黒鉛のスラリーを全面に塗布し乾燥したのち、剥離剤を用いて該光硬化パターンを除去することにより、基板上にブラックマトリックスを形成する方法において、該水溶性ホトポリマーが下記一般式(I)及び(II)【化5】【化6】で表わされる構成単位を有する高分子化合物であることを特徴とするブラックマトリックスの形成方法。

請求項（抜粋）：

基板上に水溶性ホトポリマーを用いて光硬化パターンを形成し、次いで黒鉛のスラリーを全面に塗布し乾燥したのち、剥離剤を用いて該光硬化パターンを除去することにより、基板上にブラックマトリックスを形成する方法において、該水溶性ホトポリマーが下記一般式(I)及び(II)【化1】【化2】で表わされる構成単位を有する高分子化合物であることを特徴とするブラックマトリックスの形成方法。

IPC (7件)：

H01J 9/227 ,  C08F216/06 MKV ,  C08F220/60 MNF ,  C08F299/00 MRN ,  C09D129/04 PFL ,  C09K 11/02 ,  G03F 7/027 503