特許

J-GLOBAL ID：200903041220549309

インクジェットプリントヘッドの製造方法

発明者： 金 泰均 ,  チョ ソヒョン ,  鄭 明松 ,  金 敬鎰 ,  朴 性俊
出願人/特許権者： 三星電子株式会社
代理人 (1件)： 亀谷 美明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-321461
公開番号（公開出願番号）：特開2003-145780
出願日： 2002年11月05日
公開日（公表日）： 2003年05月21日
要約：

【要約】【課題】 単一のフォトレジストを用いて一体型インクジェットプリントヘッドを製造する方法を提供する。【解決手段】 基板110の表面の所定部位に加熱要素を形成した後,基板110上にネガティブフォトレジスト120を所定厚さ塗布する。次に,インク流路のインクチャンバ124及びリストリクタ126のパターンが設けられた第1フォトマスクを用いてネガティブフォトレジスト120のうちのインクチャンバ124及びリストリクタ126を取り囲む流路形成壁体120aの側壁をなす部位を過露光して硬化させる。次に,ノズル122のパターンが設けられた第2フォトマスクを用いて,ネガティブフォトレジスト120のうちの流路形成壁体120aの上部壁をなす部位を露光して所定厚さだけ硬化させる。最後に,ネガティブフォトレジスト120のうちの硬化していない部位を溶媒を用いて溶解して除去する。

請求項（抜粋）：

インク貯蔵室からインクを供給するインク流路と,前記供給されたインクを噴き出すノズルとが基板に一体に形成されたインクジェットプリントヘッドを製造する方法であって,前記基板の表面の所定部位に,インクを加熱してバブルを発生するための加熱要素を形成する段階と,前記加熱要素が形成された前記基板上に,ネガティブフォトレジストを所定厚さ塗布する段階と,前記インク流路のインクチャンバ及びリストリクタのパターンが設けられた第1フォトマスクを用いて,前記ネガティブフォトレジストのうちの前記インクチャンバ及びリストリクタを取り囲む流路形成壁体の側壁をなす部位を過露光して硬化させる第1露光段階と,前記ノズルのパターンが設けられた第2フォトマスクを用いて,前記ネガティブフォトレジストのうちの前記流路形成壁体の上部壁をなす部位を露光して,所定厚さだけ硬化させる第2露光段階と,前記第1露光段階及び第2露光段階で前記ネガティブフォトレジストのうちの硬化されていない部位を溶媒を用いて溶解して除去する段階とを具備することを特徴とする,インクジェットプリントヘッドの製造方法。

IPC (2件)：

B41J 2/16 ,  B41J 2/05

FI (2件)：

B41J 3/04 103 H ,  B41J 3/04 103 B

Fターム (11件)：

2C057AF93 ,  2C057AG46 ,  2C057AP14 ,  2C057AP32 ,  2C057AP33 ,  2C057AP52 ,  2C057AP54 ,  2C057AP57 ,  2C057AQ02 ,  2C057BA04 ,  2C057BA13

引用特許：

出願人引用 (1件)

• インクジェットヘッドの製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平8-079000   出願人：キヤノン株式会社