特許

J-GLOBAL ID：200903041224933049

プラズマデイスプレイパネル用基板の製造法

発明者： 田井 誠司 ,  向 郁夫 ,  須藤 鉄也 ,  野尻 剛 ,  佐藤 和也 ,  田仲 裕之 ,  木村 直紀 ,  堀部 芳幸 ,  島村 真理子
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-320648
公開番号（公開出願番号）：特開平11-153860
出願日： 1997年11月21日
公開日（公表日）： 1999年06月08日
要約：

【要約】 (修正有)【課題】 少ない工程数で製造できるプラズマデイスプレイパネル用基板の製造法及びPDPの誘電体層形成と障壁形成を同時に行うことによって、高精度な形状を保持したプラズマデイスプレイパネル用基板の製造法を提供する。【解決手段】 基体の凹部に埋め込まれた障壁材料を、基板上に転写して基板上に前記基体の凹部に対応するパターンを形成し、次いで、このパターン状の障壁材料を焼成することを特徴とするプラズマデイスプレイパネル用基板の製造法及び凹部を有し、その凹部に埋め込まれた障壁材料の上及び凹部を除く表面上に形成されてなる誘電体ぺースト層を有する基体から、誘電体ぺースト層及び障壁材料を基板上に転写して、凹部に対応する障壁材料からなるパターンを形成し、次いで、これらの誘電体ぺースト層及びパターン状の障壁材料を焼成するプラズマデイスプレイパネル用基板の製造法。

請求項（抜粋）：

凹部を有する基体の凹部に埋め込まれた障壁材料を、基板上に転写して基板上に前記基体の凹部に対応する障壁材料からなるパターンを形成し、次いで、このパターン状の障壁材料を焼成することを特徴とするプラズマデイスプレイパネル用基板の製造法。

IPC (5件)：

G03F 7/004 511 ,  H01J 9/02 ,  H01J 9/20 ,  H01J 11/02 ,  H01J 17/16

FI (5件)：

G03F 7/004 511 ,  H01J 9/02 F ,  H01J 9/20 A ,  H01J 11/02 B ,  H01J 17/16

引用特許：

審査官引用 (2件)

• プラズマ表示装置用基板及びその製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-340124   出願人：京セラ株式会社
• 特開平1-137534