特許
J-GLOBAL ID：200903041227765708
図形描画装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
杉村 次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-311051
公開番号（公開出願番号）：特開平7-141513
出願日： 1993年11月18日
公開日（公表日）： 1995年06月02日
要約：
【要約】【目的】 ベクトル方式で線画図形を描画する場合、データ量を増大せずに線の太さに変化を付けたベジェール曲線を簡単に描画する。【構成】 線画展開装置4はキーボード2から入力されたベジェール描画用の座標点とメモリ3に記憶されている太さ情報とに基づいて開始点と終了点との間に太さ情報に応じた隔たりを持って内側、外側にベジェール曲線を描画すると共に、それらの間を塗りつぶすことにより線の太さを制御する。
請求項（抜粋）：
曲線の開始点、終了点および制御点とに基づいてこの開始点と終了点とをベジェール曲線で結ぶことにより線画図形を描画する図形描画装置において、ベジェール曲線描画用の座標点を入力する入力手段と、ベジェール曲線の太さを変化させる太さ情報を記憶する記憶手段と、前記入力手段から入力された座標点と前記記憶手段に記憶されている太さ情報とに基づいて開始点と終了点の間に太さ情報に応じた隔たりを持って内側、外側に2本のベジェール曲線を描画するベジェール描画手段と、このベジェール描画手段によって描画された2本のベジェール曲線の間を塗りつぶすことにより線の太さを制御する太さ制御手段と、を具備したことを特徴とする図形描画装置。
IPC (2件)：
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