特許

J-GLOBAL ID：200903041249235443

ヒ素イオンの吸着除去方法

発明者： 鈴木 敏重 ,  松永 英之 ,  横山 敏郎
出願人/特許権者： 工業技術院長
代理人 (1件)： 工業技術院東北工業技術研究所長
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-225746
公開番号（公開出願番号）：特開平11-047505
出願日： 1997年08月07日
公開日（公表日）： 1999年02月23日
要約：

【要約】【目的】 水溶液中のヒ素イオンを多孔質吸着材に選択的かつ効率的に吸着させ、しかも繰り返し再現性よく吸着除去する方法を提供する。【構成】 多孔質材料の細孔内表面に含水酸化ジルコニウムを分散担持させた吸着材をカラムに充填し、pHを2.0〜10.0に調整したヒ素イオン含有水溶液を5〜20h-1の空塔速度で通液することにより、ヒ素イオンを吸着除去する。更に吸着されたヒ素イオンを0.1〜3モルのアルカリ溶液を用いて溶離し、酸及び水洗することによりカラムを再生させ、繰り返しヒ素イオン吸着除去に用いる方法。【効果】 工業廃水などに含まれるヒ素イオンを効率よく繰り返し吸着除去することができ、残留ヒ素の濃度を0.1ppm以下に低減することが可能である。

請求項（抜粋）：

ヒ素イオン含有溶液を、一般式MO2・nH2O(式中のMはジルコニウムを表し、nは1〜6の整数)で表されるジルコニウムの含水酸化物結晶を多孔質材料表面に5〜60重量%担持してなる吸着材料に接触させることにより、該ヒ素イオンを吸着させた後、0.1〜3モルアルカリ水溶液で吸着イオンを溶離し、さらにpH2〜6の緩衝液及び水で該吸着材を再生させることを特徴とする、水溶液中のヒ素イオン吸着除去方法。

IPC (3件)：

B01D 15/00 ,  C02F 1/28 ,  C02F 1/62

FI (3件)：

B01D 15/00 P ,  C02F 1/28 A ,  C02F 1/62 Z