特許

J-GLOBAL ID：200903041251432248

排ガス浄化用触媒

発明者： 奥村 公平 ,  坂本 淑幸
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (1件)： 大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-079907
公開番号（公開出願番号）：特開2004-283739
出願日： 2003年03月24日
公開日（公表日）： 2004年10月14日
要約：

【課題】真空成膜法で形成した薄膜中の触媒金属及び金属酸化物の構造及び配置を規定することで、実用に値する高活性な触媒とする。【解決手段】触媒金属と金属酸化物とからなり径がnmオーダーの無数の柱状体10が厚さ方向に延びて成長することで薄膜1が成膜され、個々の柱状体10が薄膜1の厚さ方向と略直交する方向に間隔がnmオーダーの範囲で周期的に配列している構造とした。柱状体10どうしの間に形成されたnmオーダーの空隙が反応場となり、ガス拡散性にも優れるため、高い活性が発現される。【選択図】 図2

請求項（抜粋）：

基材と、該基材の表面に形成され触媒金属と金属酸化物とよりなる薄膜とからなり、該触媒金属と該金属酸化物とからなり径がnmオーダーの無数の柱状体が厚さ方向に延びて成長することで該薄膜が成膜され、個々の該柱状体が該薄膜の厚さ方向と略直交する方向に間隔がnmオーダーの範囲で周期的に配列していることを特徴とする排ガス浄化用触媒。

IPC (6件)：

B01J23/42 ,  B01D53/94 ,  B01J23/46 ,  B01J23/63 ,  B01J37/02 ,  C23C14/34

FI (7件)：

B01J23/42 A ,  B01J23/46 A ,  B01J23/46 311A ,  B01J37/02 301P ,  C23C14/34 C ,  B01J23/56 301A ,  B01D53/36 102B

Fターム (59件)：

4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048AC01 ,  4D048BA03X ,  4D048BA06X ,  4D048BA07Y ,  4D048BA08X ,  4D048BA19X ,  4D048BA30X ,  4D048BA31Y ,  4D048BA32Y ,  4D048BA33X ,  4D048BA41X ,  4D048BB09 ,  4D048BB16 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01A ,  4G069BA01B ,  4G069BA02A ,  4G069BA02B ,  4G069BA04A ,  4G069BA05A ,  4G069BA05B ,  4G069BB01A ,  4G069BB01B ,  4G069BB02A ,  4G069BB02B ,  4G069BB04A ,  4G069BB04B ,  4G069BC43A ,  4G069BC43B ,  4G069BC70A ,  4G069BC71A ,  4G069BC71B ,  4G069BC72A ,  4G069BC74A ,  4G069BC74B ,  4G069BC75A ,  4G069BC75B ,  4G069BD05A ,  4G069BD05B ,  4G069CA02 ,  4G069CA03 ,  4G069CA08 ,  4G069CA13 ,  4G069EA11 ,  4G069EC29 ,  4G069FA03 ,  4G069FA06 ,  4G069FB02 ,  4K029AA06 ,  4K029AA24 ,  4K029BA64 ,  4K029BC07 ,  4K029BD00 ,  4K029CA06 ,  4K029CA15 ,  4K029DC16