特許
J-GLOBAL ID：200903041254096613
パラジウム用化学エッチャント
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡部 正夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-317409
公開番号（公開出願番号）：特開平7-207466
出願日： 1994年12月21日
公開日（公表日）： 1995年08月08日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、パラジウムの化学エッチャントに関する。【構成】 銅を含む基板から、パラジウムを除去するための、シアン化物を基礎とした水溶液、溶液はシアン化物ラジカル源化合物、Na2 CO3 、ニトロベンゼン酸、NaOH、タリウム化合物、有機メルカプト化合物及び水を含む。タリウムを含むシアン化物槽中に、有機メルカプト化合物が存在することにより、基板への侵食損傷は最小で、銅を含む基板からパラジウムを効率よく除去することが可能となる。
請求項（抜粋）：
パラジウム除去溶液を作り、前記溶液中に除去すべきPdの部分を浸すことよりなる銅含有基板から、パラジウム及びその合金を除去する方法であって前記除去溶液は、水中に水酸化物、ニトロ安息香酸及びタリウム化合物を含むオキシダント溶液を作り、溶媒中に有機メルカプト化合物を含むCu侵食抑制溶液を作り、水中にシアン化物ラジカル源化合物及びNa2 CO3 を含む塩溶液を作り、オキシダント溶液の量を多く、次に混合しながら塩溶液に抑制剤を加えることによって、3つの溶液を混合することにより調製される、銅含有基板から、パラジウム及びその合金を除去する方法。
IPC (2件)：
引用特許：
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