ブラックマトリックスパターンの形成方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：前島肇
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-308152
公開番号（公開出願番号）：特開平9-127675
出願日： 1995年10月31日
公開日（公表日）： 1997年05月16日
要約：

【要約】【課題】薄い膜厚で高い遮光性を有し、かつ塗膜強度の大きいブラックマトリックスを、環境問題を発生させずに形成する方法を提供する。【解決手段】レジストパターン5を施した透明基板1のレジスト膜の上に、遮光膜形成用塗料を塗布乾燥して塗膜6を形成した後、塗膜6をレジストパターンが出現するまで研磨し、その後レジストパターン5を取り除くことを特徴とするブラックマトリックスパターン7の形成方法。

請求項（抜粋）：

レジストパターンを施した透明基板のレジスト膜の上に、遮光膜形成用塗料を塗布乾燥して塗膜を形成した後、該塗膜をレジストパターンが出現するまで研磨し、その後レジストパターンを除去することを特徴とするブラックマトリックスパターンの形成方法。

IPC (2件)：

G03F 1/00 , G02F 1/1335 500

FI (2件)：

G03F 1/00 Z , G02F 1/1335 500

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