特許

J-GLOBAL ID：200903041263727510

光洗浄方法および光洗浄装置

発明者： 成澤 孝司
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-089662
公開番号（公開出願番号）：特開2004-290906
出願日： 2003年03月28日
公開日（公表日）： 2004年10月21日
要約：

【課題】ステッパ用光学部品を光洗浄する際の透過率低下現象を解決する。【解決手段】洗浄槽に被洗浄物を収める工程と、前記洗浄槽に酸素を含有するガスを導入する工程と、紫外光源から前記被洗浄物に紫外線を照射する工程とを有する光洗浄方法において、被洗浄物を収めた空間を占めるガスに含まれる総有機物量をヘキサデカン換算で20μg/m3以下とする。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

洗浄槽に被洗浄物を収める工程と、前記洗浄槽に酸素を含有するガスを導入する工程と、紫外光源から前記被洗浄物に紫外線を照射する工程とを有し、前記洗浄槽の被洗浄物を収めた空間を占めるガスに含まれる総有機物量がヘキサデカン換算で20μg/m3以下である光洗浄方法。

IPC (2件)：

B08B7/00 ,  H01L21/027

FI (3件)：

B08B7/00 ,  H01L21/30 515D ,  H01L21/30 503G

Fターム (17件)：

3B116AA47 ,  3B116AB23 ,  3B116BC01 ,  4G075AA30 ,  4G075AA37 ,  4G075BA04 ,  4G075CA33 ,  4G075CA62 ,  4G075DA02 ,  4G075DA18 ,  4G075EB01 ,  4G075EB31 ,  4G075FB02 ,  4G075FB04 ,  4G075FB06 ,  4G075FB12 ,  5F046CB01