特許
J-GLOBAL ID：200903041266431566
位置検出方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-222158
公開番号（公開出願番号）：特開平6-053118
出願日： 1992年07月29日
公開日（公表日）： 1994年02月25日
要約：
【要約】【目的】 既に形成された回路パターン等の面積が広い場合でも、その上の層に露光する回路パターン等の重ね合わせ精度を高く維持する。【構成】 ガラスプレート4上の既に形成された液晶画素部21A及び21Bの上に重ねてレチクルの回路パターンを露光する。液晶画素部21Aの中の回路パターン26-1を基準画像としてメモリに登録し、この基準画像を用いて液晶画素部21A,21Bの他の領域でパターンマッチングを行う。それにより抽出された回路パターン26-2等の位置に基づいてアライメントを行う。
請求項（抜粋）：
予め、基準となる所定のマークの第1の映像信号をテンプレートとして記憶しておき、所定のパターンを繰り返して配置したパターン領域が形成された基板上の所定領域内のマークを撮像して第2の映像信号を検出し、該第2の映像信号から前記テンプレートに対応する映像信号を検出して該映像信号の位置を検出することにより該基板の位置検出を行うパターンマッチング式の位置検出方法において、前記基準となる所定のマークは、前記基板上のパターン領域内の任意のパターンであり、前記第2の映像信号として前記パターン領域内の任意のパターンの映像信号を検出する事を特徴とする位置検出方法。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03F 9/00
, H01L 21/68
