特許
J-GLOBAL ID:200903041270561148

遮光性薄膜形成組成物

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 志賀 正武 (外2名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-093174
公開番号(公開出願番号):特開平5-289336
出願日: 1992年04月13日
公開日(公表日): 1993年11月05日
要約:
【要約】【目的】 電気抵抗が高く、環境汚染性が低く、十分に黒色であり、しかも耐熱性も高い遮光性薄膜を形成し得る組成物を提供する。【構成】 背面露光法に用いられる遮光性薄膜形成組成物であって、ネガ型レジスト30〜80重量部に対し硫化ビスマスを70〜20重量部配合してなる遮光性薄膜組成物。
請求項(抜粋):
背面露光法に用いられる遮光性薄膜形成組成物であって、ネガ型レジスト30〜80重量部に対し硫化ビスマスを70〜20重量部配合してなることを特徴とする遮光性薄膜形成組成物。
IPC (7件):
G03F 7/038 ,  C01G 29/00 ,  C09K 3/00 ,  G02B 5/20 101 ,  G03F 7/004 505 ,  G03F 7/004 511 ,  G03F 7/004 521

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