特許
J-GLOBAL ID：200903041299123824
アライメント装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-064084
公開番号（公開出願番号）：特開平7-321030
出願日： 1995年03月23日
公開日（公表日）： 1995年12月08日
要約：
【要約】【目的】 複数の位置合わせ用のマークの位置を対応する複数系統のアライメントセンサにより個別に光学的に検出する場合に、各アライメントセンサに対して個別に正確且つ高速に合焦する。【構成】 ウエハ上のFIA系のウエハマークからの反射光を、対物レンズ23等を介してFIA系の検出部51で受光して、ウエハマークのX座標又はY座標を計測する。ウエハマークがLIA系の場合には、LIA系の検出部34からのレーザビームを対物レンズ23等を介してウエハ上に照射する。合焦のため、スリット板37内の複数のパターンを対物レンズ23等を介して各ウエハマーク上に投影し、その像を遮光板38等を介してラインセンサ39上に再結像し、再結像された像の横ずれ量から各ウエハマークのフォーカス位置を検出する。
請求項（抜粋）：
位置決め対象物上の第1マーク領域に形成された位置合わせ用の第1マークからの光、及び第2マーク領域に形成された第2マークからの光を検出するために設けられた対物光学系と、前記対物光学系の視野内に第1検出領域を有し、前記対物光学系を介して前記第1マークからの光を検出して前記第1マークの位置を検出する第1検出光学系と、前記対物光学系の視野内に前記第1検出領域とは異なる第2検出領域を有し、前記第2マークからの光を検出して前記第2マークの位置を検出する第2検出光学系と、前記第1検出領域及び前記第2検出領域のそれぞれに光ビームを照射すると共にその反射光を受光することにより、前記第1マーク領域の前記第1検出光学系の合焦面に対するずれ、及び前記第2マーク領域の前記第2検出光学系の合焦面に対するずれの少なくとも一方を検出する焦点検出系と、を有することを特徴とするアライメント装置。
IPC (3件)：
H01L 21/027
, G03B 27/32
, G03F 9/00
H01L 21/30 525 D
, H01L 21/30 526 A
