特許
J-GLOBAL ID：200903041299533933
成紙の汚れを防止する方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-345543
公開番号（公開出願番号）：特開2001-262488
出願日： 2000年11月13日
公開日（公表日）： 2001年09月26日
要約：
【要約】【課題】 コ-トブロ-クを主体とする製紙原料に由来する成紙のピッチトラブルを防止する方法を提供する。【解決手段】 シ-ト形成に先だって、コ-トブロ-クを主体とする製紙原料中に、ジアリルアミン系単量体の(共)重合体及び/または(メタ)アクリル系四級アンモニウム塩基を含有する単量体の(共)重合体、好ましくは塩水溶液中で該塩水溶液に可溶なイオン性高分子からなる分散剤共存下で、分散重合法により製造された粒系100mμ以下の高分子微粒子の分散液からなる(共)重合体を添加し、処理した後、抄紙することにより目的を達成できる。
請求項（抜粋）：
シ-ト形成に先だって、コ-トブロ-クを主体とする製紙原料中に下記一般式(1)及び/または一般式(2)で表わされる繰り返し単位を含むカチオン性水溶性高分子を添加、処理した後、抄紙することを特徴とする成紙の汚れを防止する方法。【化1】 繰り返し単位(1)R1、R2は水素またはメチル基、R3、R4はメチル基、エチル基、ベンジル基、Yは陰イオン【化2】 繰り返し単位(2)Aは酸素原子又はNH、BはC2〜C3のアルキレン基又はアルコキシレン基、R5は水素またはメチル基、R6、R7、R8はメチル基、エチル基、ベンジル基、Yは陰イオン
IPC (5件)：
D21H 17/45
, C08F 2/20
, C08F 20/34
, C08F 20/60
, C08F 26/02
D21H 17/45
, C08F 2/20
, C08F 20/34
, C08F 20/60
, C08F 26/02
4J011JA03
, 4J011JA04
, 4J011JA06
, 4J011JA10
, 4J011JB26
, 4J100AG04Q
, 4J100AL08P
, 4J100AM02Q
, 4J100AM15Q
, 4J100AM19Q
, 4J100AM21Q
, 4J100AN04Q
, 4J100AN14P
, 4J100AQ08Q
, 4J100BA02Q
, 4J100BA03P
, 4J100BA13Q
, 4J100BA32P
, 4J100CA01
, 4J100CA04
, 4J100FA03
, 4J100FA04
, 4J100FA21
, 4J100JA13
, 4L055AA11
, 4L055AG08
, 4L055AG72
, 4L055AG73
, 4L055AG89
, 4L055AG97
, 4L055EA29
, 4L055EA30
, 4L055FA08
, 4L055GA35
