特許
J-GLOBAL ID：200903041316420072
ホトリソグラフィーの露光量算出方法
発明者：
出願人/特許権者：
,
代理人 (1件)：
船橋 国則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-358257
公開番号（公開出願番号）：特開平6-196378
出願日： 1992年12月25日
公開日（公表日）： 1994年07月15日
要約：
【要約】【目的】 ホトリソグラフィーにおいて、レジストに目標寸法のパターンを形成するための露光量の算出方法を提供する。【構成】 先ず、第一工程S1では、過去の露光で照射した露光量と、過去の露光でレジストに形成されたパターンの寸法をその露光に用いたマスクのパターン寸法の偏差で補正した値と、露光特性曲線に基づく第一の係数とで規定される直線の方程式に対して、新たな露光で形成するパターンの目標寸法を代入することによって第一の露光量を算出する。次いで、第二工程S2では、露光特性曲線に基づく第二の係数と、新たな露光に使用するマスクのパターン寸法の偏差とを用いて補正露光量を算出する。そして、第三の工程S3では、第一の露光量を補正露光量で補正し、新たな露光量En+1 を算出する。
請求項（抜粋）：
ホトリソグラフィーにおいて、レジストに目標寸法のパターンを形成するための新たな露光量を算出する方法であって、過去の露光で照射した露光量と、前記過去の露光でレジストに形成されたパターンの寸法をその露光に用いたマスクのパターン寸法の偏差で補正した値と、露光特性曲線に基づく第一の係数と、で規定される直線の方程式に対して、新たな露光で形成するパターンの目標寸法を代入することによって第一の露光量を算出する第一の工程と、露光特性曲線に基づく第二の係数と、新たな露光に使用するマスクのパターン寸法の偏差とを用いて補正露光量を算出する第二の工程と、前記第一の露光量を前記補正露光量で補正する第三の工程とからなることを特徴とするホトリソグラフィーの露光量算出方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
