特許
J-GLOBAL ID：200903041317701016
マイクロ波プラズマ処理装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-326614
公開番号（公開出願番号）：特開平7-183095
出願日： 1993年12月24日
公開日（公表日）： 1995年07月21日
要約：
【要約】【構成】マイクロ波を利用したプラズマ処理装置において、導波管及び放電管の軸に対し、垂直な平面上で中央部より外周部のマイクロ波電界強度が強いマイクロ波をプラズマ処理室に導入するよう構成した。【効果】均一なプラズマを生成できるので、均一なプラズマ処理が可能になるという効果がある。
請求項（抜粋）：
プラズマ発生装置と減圧可能なプラズマ処理室とガス供給装置と真空排気装置よりなるプラズマ処理装置において、導波管及び放電管の軸に対し、垂直な平面上で中央部より外周部のマイクロ波電界強度が強いマイクロ波をプラズマ処理室に導入するように構成したことを特徴とするマイクロ波プラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H05H 1/46
, H01L 21/205
, H01L 21/3065
, H01P 1/16
